BusinessCompetency
켐옵틱스는 미래 핵심 산업에 필요한 반도체 미세공정용 전자재료와 광통신 네트워크 부품을 생산 공급하고 있으며,
반도체/광통신 기반기술의 연구개발 및 초기 생산기술 검증을 위한 파운드리 서비스 지원을 제공합니다.
반도체재료
Photoresist
포토레지스트(PR)는 빛에 반응하여 화학적 변화를 일으키는 감광액의 일종으로 반도체 공정 중 빛으로 웨이퍼에 회로 모양을 새기는 노광 공정의 핵심 재료입니다.
노광에 쓰이는 광원의 종류에는 빛의 파장에 따라 극자외선(EUV∙13.5nm), 불화아르곤(ArF∙193nm), 불화크립톤(KrF∙248nm)용 등으로 구분되며
파장이 짧을수록 회로 선폭을 세밀히 할 수 있습니다.
EUV PR (13.5nm)
EUV는 짧은 파장으로 해상도가 극대화되며 적은 횟수의 패터닝으로 구현 가능하기 때문에 공정 수가 대폭 감소된다는 장점이 있습니다.
EUV PR은 화학증폭형 (CAR, 유기)와 비화학증폭형 (Non-CAR, 무기) 형태로 구분되며, 켐옵틱스는 고객 맞춤형 PR 소재 연구개발을 진행하고 있습니다.
ArF PR (193nm) & KrF PR (248nm)
DUV는 오랫동안 사용해오던 기술로써 축적된 노하우와 높은 신뢰성을 보유하고 있으며, 노광장비가 저렴하고 생산성이 높다는 것이
장점입니다. 켐옵틱스는 고분자 수지, 광산발생제 (PAG), 베이스로 구성되어 있는 PR 소재 중 Poly(hydroxystyrene) 기반과 다양한
조성의 아크릴계 고분자 수지의 연구 제품을 고객사 용도에 적합하게 공급하고 있습니다.
